Основные группы полупроводниковых материалов. (Лекция 8) презентация

Содержание


Презентации» Физика» Основные группы полупроводниковых материалов. (Лекция 8)
Лекция №8  Тема: Основные группы полупроводниковых материалов
 1. Простые полупроводники
Классификация полупроводниковСпособы получения монокристаллов полупроводников
 1. Вытягивание из расплава по методу Чохральского.Простые полупроводники
 1. Германий
 1s22s22p63s23p63d104s24p2 
 
 GeCl4 +2H2O  GeO2Алмазоподобная кубическая гранецентрированная решетка германия и кремнияОсновные свойства германия и кремнияКремний 1s22s22p63s23p2Основные параметры кремнияМеханические свойства кремнияТеплопроводность кремнияСпособы получения
 1. Метод Чохральского
 SiO2 + 2C  Si +Метод бестигельной зонной плавкиВид монокристалла Si диаметром 200 мм после извлечения из расплава
 ВидВид слитка после процесса выращиванияПромышленная установка для полировки кремниевых подложек диаметром 300 ммМаркировка кремниевых подложек в зависимости от кристаллографической ориентации и типа легированияУдельное сопротивление кремния в зависимости от концентрации легирующей примесиНанесение покрытий методом центрифугирования
 Нанесение покрытий методом центрифугирования
 (spin-on)Полупроводниковые соединения группы АIIIВVПримеси в соединениях AIIIBV
 Элементы II – Be, Mg, Zn, CdАрсенид галлия GaAs
 Ширина запрещенной зоны - 1,43 эВ
 Подвижность электроновАнтимонид индия InSb
 Ширина запрещенной зоны - 0,17 эВ
 Подвижность электроновФосфид галлия GaP
 Ширина запрещенной зоны - 2,25 эВ
 Подвижность электроновПолупроводниковые соединения группы АIIВVIОсобенности соединений AIIBVI
 Изменение удельного сопротивления в широких пределах термообработкой вХалькогениды кадмия – CdS, CdSe, CdTe
 Электронный тип проводимости – обусловленХалькогениды цинка – ZdS, ZnSe, ZnTe
 - Широкая запрещенная зона –Полупроводниковые соединения группы АIVВVI
 Халькогениды свинца – PbS, PbSe, PbTe, SnTe
Халькогениды свинца – PbS, PbSe, PbTe
 При отклонении от стехиометрического составаПолупроводниковые соединения группы АIVВIV
 Карбид кремния
 SiO2 + 3C  SiCСпособ формирования монокристаллов SiCОбласти применения SiC
 Светодиоды, мощные выпрямительные диоды, высокотемпературные тензорезисторы.
 Штампы приТонкопленочный светоизлучательный диод (LED)Органические полупроводники
 Органический материал на основе полимера
 Силы Ван-дер-ВаальсаЛинейные – пентацен
 Линейные – пентацен
 Двумерные соединения со сшитыми кольцами



Слайды и текст этой презентации
Слайд 1
Описание слайда:
Лекция №8 Тема: Основные группы полупроводниковых материалов 1. Простые полупроводники 2. Полупроводниковые соединения


Слайд 2
Описание слайда:
Классификация полупроводников

Слайд 3
Описание слайда:
Способы получения монокристаллов полупроводников 1. Вытягивание из расплава по методу Чохральского. 2. Метод бестигельной зонной плавки. 3. Кристаллизация из газовой фазы с использованием методов сублимации из газовой фазы и химических транспортных реакций (CdS, ZnS, SiC).

Слайд 4
Описание слайда:
Простые полупроводники 1. Германий 1s22s22p63s23p63d104s24p2 GeCl4 +2H2O  GeO2 + 4HCl GeO2 +2H2  Ge+2H2O

Слайд 5
Описание слайда:
Алмазоподобная кубическая гранецентрированная решетка германия и кремния

Слайд 6
Описание слайда:
Основные свойства германия и кремния

Слайд 7
Описание слайда:
Кремний 1s22s22p63s23p2

Слайд 8
Описание слайда:
Основные параметры кремния

Слайд 9
Описание слайда:
Механические свойства кремния

Слайд 10
Описание слайда:
Теплопроводность кремния

Слайд 11
Описание слайда:
Способы получения 1. Метод Чохральского SiO2 + 2C  Si + 2CO, Т 2000С

Слайд 12
Описание слайда:
Метод бестигельной зонной плавки

Слайд 13
Описание слайда:
Вид монокристалла Si диаметром 200 мм после извлечения из расплава Вид монокристалла Si диаметром 200 мм после извлечения из расплава

Слайд 14
Описание слайда:

Слайд 15
Описание слайда:
Вид слитка после процесса выращивания

Слайд 16
Описание слайда:
Промышленная установка для полировки кремниевых подложек диаметром 300 мм

Слайд 17
Описание слайда:
Маркировка кремниевых подложек в зависимости от кристаллографической ориентации и типа легирования

Слайд 18
Описание слайда:
Удельное сопротивление кремния в зависимости от концентрации легирующей примеси

Слайд 19
Описание слайда:
Нанесение покрытий методом центрифугирования Нанесение покрытий методом центрифугирования (spin-on)

Слайд 20
Описание слайда:
Полупроводниковые соединения группы АIIIВV

Слайд 21
Описание слайда:
Примеси в соединениях AIIIBV Элементы II – Be, Mg, Zn, Cd – акцепторы Замещают узлы металлического компонента Элементы VI – S, Se, Te – доноры Замещают узлы элемента BV Элементы IV Замещают узлы как AIII, так и BV

Слайд 22
Описание слайда:
Арсенид галлия GaAs Ширина запрещенной зоны - 1,43 эВ Подвижность электронов - 0,85 м2/Вс Концентрация электронов - 1022м-3 Предельная рабочая температура - 450С Акцепторы – Zn, Cd, Cu Доноры – S,Se, элементы IV

Слайд 23
Описание слайда:
Антимонид индия InSb Ширина запрещенной зоны - 0,17 эВ Подвижность электронов - 7,7 м2/Вс Собственная проводимость при комнатной температуре В области примесной проводимости материал близок к вырождению

Слайд 24
Описание слайда:
Фосфид галлия GaP Ширина запрещенной зоны - 2,25 эВ Подвижность электронов - 0, 46 м2/Вс Концентрация электронов – 1017-1020м-3 Акцепторы – Mg, Zn, Cd, C, Be Доноры – O, S, Se, Te, Si, Sn

Слайд 25
Описание слайда:
Полупроводниковые соединения группы АIIВVI

Слайд 26
Описание слайда:
Особенности соединений AIIBVI Изменение удельного сопротивления в широких пределах термообработкой в парах одного из собственных компонентов. Монокристаллы соединений выпускаются в ограниченных объемах. Области применения – люминесцентные покрытия и экраны, фоторезисторы, солнечные элементы, тонкопленочные транзисторы

Слайд 27
Описание слайда:
Халькогениды кадмия – CdS, CdSe, CdTe Электронный тип проводимости – обусловлен отклонением стехиометрического состава (недостаток S, Se, Te) CdTe n-CdTe-(избыток Cd) p-CdTe-(вакансии Cd) Концентрация свободных носителей заряда – 1020-1025 м-3 Подвижность электронов – 5,7 м2/Вс

Слайд 28
Описание слайда:
Халькогениды цинка – ZdS, ZnSe, ZnTe - Широкая запрещенная зона – 3,6; 2,7; 2,2 эВ

Слайд 29
Описание слайда:
Полупроводниковые соединения группы АIVВVI Халькогениды свинца – PbS, PbSe, PbTe, SnTe Добавление олова (Sn) к теллуриду свинца (PbTe) приводит к уменьшению ширины запрещенной зоны до нуля.

Слайд 30
Описание слайда:
Халькогениды свинца – PbS, PbSe, PbTe При отклонении от стехиометрического состава обладают электронной проводимостью при избытке Pb, дырочной проводимостью – при избытке элемента VI группы. Узкозонные материалы.

Слайд 31
Описание слайда:
Полупроводниковые соединения группы АIVВIV Карбид кремния SiO2 + 3C  SiC + 2CO, Т=2400-2600С ширина запрещенной зоны  2,39 эВ подвижность электронов  0,1 м2/Вс подвижность дырок  0,006м2/Вс избыток Si – n-тип проводимости избыток С – р-тип проводимости Собственная проводимость начиная с 1400С

Слайд 32
Описание слайда:
Способ формирования монокристаллов SiC

Слайд 33
Описание слайда:
Области применения SiC Светодиоды, мощные выпрямительные диоды, высокотемпературные тензорезисторы. Штампы при формировании низкоразмерных структур

Слайд 34
Описание слайда:
Тонкопленочный светоизлучательный диод (LED)

Слайд 35
Описание слайда:
Органические полупроводники Органический материал на основе полимера Силы Ван-дер-Ваальса

Слайд 36
Описание слайда:
Линейные – пентацен Линейные – пентацен Двумерные соединения со сшитыми кольцами – производные нафталина и фталоцианинов Гетероциклические олигомеры – производные тиофена с р-типом проводимости Применение Светодиоды, органические фотовольтаические элементы, прозрачные тонкопленочные транзисторы, дисплеи с использованием гибких материалов.

Слайд 37
Описание слайда:


Скачать презентацию на тему Основные группы полупроводниковых материалов. (Лекция 8) можно ниже:

Похожие презентации