ЗАКОНОМЕРНОСТИ, МЕТОДЫ И ТЕХНОЛОГИИ ФОРМИРОВАНИЯ ОБЪЕМНЫХ МИКРОСТРУКТУР В ФОТОПОЛИМЕРНЫХ НАНОКОМПОЗИЦИОННЫХ МАТЕРИАЛАХ презентация
Содержание
- 2. ГЛУБОКАЯ ЛИТОГРАФИЯ
- 3. ПРИМЕРЫ ПОЛИМЕРНЫХ МИКРОСТРУКТУР, ПОЛУЧЕННЫХ МЕТОДОМ РЕНТГЕНОВСКОЙ ЛИТОГРАФИИ (X-ray deep lithography)
- 4. Процессы, исследованные в данной работе основаны на самоорганизации фотоотверждаемого материала, исследованного
- 5. УСЛОВИЯ ЭКСПЕРИМЕНТА Экспериментальная установка, экспонирование 365 нм.
- 6. Используемые вещества
- 7. ЗАКОНОМЕРНОСТИ РОСТА МИКРОСТРУКТУР В ВЫСОТУ
- 8. ЗАВИСИМОСТИ РОСТА МИКРОСТРУКТУР В ШИРИНУ
- 9. ЗАВИСИМОСТИ РОСТА МИКРОСТРУКТУР В ШИРИНУ
- 10. СЛИЯНИЕ БЛИЗКО РАСПОЛОЖЕННЫХ ЭЛЕМЕНТОВ МИКРОСТРУКТУР
- 11. ЗАВИСИМОСТЬ НАИМЕНЬШЕГО РАССТОЯНИЯ МЕЖДУ ЭЛЕМЕНТАМИ ОТ ДЛИТЕЛЬНОСТИ ЭКСПОЗИЦИИ И ПЛОТНОСТИ ШАБЛОНА
- 12. ПРИМЕРЫ ПОЛУЧЕННЫХ МИКРОСТРУКТУР
- 13. ВЫВОДЫ Показано, что элементы вначале образуются по центру экспонирующего пучка света
- 14. СПИСОК ПУБЛИКАЦИЙ Булгакова В.Г., Бурункова Ю.Э., Ворзобова Н.Д. Особенности формирования
- 15. КОНФЕРЕНЦИИ Булгакова В.Г., Ворзобова Н.Д. Формирование микроэлементов и микроструктур в УФ-отверждаемом
- 17. Скачать презентацию
Слайды и текст этой презентации
Скачать презентацию на тему ЗАКОНОМЕРНОСТИ, МЕТОДЫ И ТЕХНОЛОГИИ ФОРМИРОВАНИЯ ОБЪЕМНЫХ МИКРОСТРУКТУР В ФОТОПОЛИМЕРНЫХ НАНОКОМПОЗИЦИОННЫХ МАТЕРИАЛАХ можно ниже: